Forschungsprojekt an der FHWS

Prof. Dr. Boris Bittner

Persönliche Daten

Titel
Prof. Dr.
Vorname
Boris
Nachname
Bittner
Telefonnummer
+49 931 3511 - 8711
Weitere Telefonnummer
+49 151 12143927
E-Mail Adresse

Abteilung / Funktion / Ausstattung an der FHWS

Fakultät
FANG (Angewandte Natur und Geisteswissenschaft)
Funktion in der FHWS
  • Studiengangsberatung
    Labor
    Labor für Optimierung
    Laborausstattung
    Optimierungssoftware
    Lehrgebiete
    Mathematik

    Einordnung in DFG Systematik der Fächer

    Naturwissenschaften
    • Optik, Quantenoptik, Physik der Atome, Moleküle und Plasmen
    • Mathematik
      Ingenieurwissenschaften
      Angewandte Mechanik, Statik und Dynamik

      Forschungsaktivität

      Forschungsgebiete
      - mathematische Optimierung
      - Signal- und Bildverarbeitung (Fourieranalysis und Wavelets)
      - numerische Mathematik (insbesondere echtzeitkritische Algorithmen)
      - Stereolithographie
      - Systems Engineering
      Kompetenzcluster der FHWS
      • Mensch & Ökonomie
      • Digitalisierung
      • Smarte Produktion

        Publikationen

        Zeitschriftenbeiträge
        über 50 Patentfamilien in den Bereichen mathematische Optimierung, echtzeitkritische Steuerung und optische Systeme

        u.a.
        [1] B. Bittner, H. Walter, M. Rösch, Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility, CN102165371, DE102008042356, EP2329321, JP4988066, KR20110047250, TW201019041, US8203696, WO10034674, KR20140002078, US2014176924, KR101426123, KR102014101891, TW000201506555, US000009052609, TW00000I480669 (2010)

        [2] B. Bittner, Projection exposure apparatus with optimized adjustment capability, DE102010041528, US2013250266, WO12041589 (2012)

        [3] J. Zellner, B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, A. Schob, G. Rudolph, A. Gratzke, A. Moffat, Projection objective of a mcrolithographic projection exposure apparatus, WO13044936, TW201329645, US20140185024, KR20140089356 (2013)

        [4] M. Weiß, N. Kerwien, M. Weiser, B. Bittner, N. Wabra, Chr. Schlichenmaier, W. Clauss, Reflective optical element for the EUV wavelength range, method for producing and correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens, DE102011084117, WO13050199, CN103858055, KR20140084012, EP2764407, US020140307308 (2013)

        [5] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, T. Schicketanz, T. Gruner, Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement, DE102012202057, WO13117343, TW201337324, US20140347721 (2013)

        [6] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, R. Mack, System correction from long timescales, DE102012212758, WO14012643, KR102015032870, US20150160562 (2014)

        [7] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, Method of operating a microlithographic projection apparatus, WO20150360002 (2015)

        [8]

         

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